重生2011，二本捡漏985

他企业做不到的突破。

    同样，星逸科技也展示出了恐怖的实力。

    苹果、三星、高通都做不到的基带集成，星逸半导体做到了。

    中芯国际那么多年都搞不定的40纳米工艺，星逸晶圆厂搞定了，试产良品率就高达89，后续只会更高。

    华为都做不到的芯片自研自产，星逸科技做到了，还性能卓越。

    如此成绩，全球都会震惊。

    高层自然会高度关注，大力支持。

    “王董，你放心，用不了几年，光刻机会突破，光刻胶也会突破！”赵老郑重道。

    这年头的光刻机还是duv光刻机，不像euv光刻机那么难如登天，自然好突破。

    同样，光刻机也只是28纳米，20纳米的中端光刻胶，不像前世5纳米，3纳米纳米的高端光刻胶那么困难。

    说白了，当下和欧美的差距还很小。

    因为王逸之前不知天高地厚的提议，官方提前布局，提前攻坚，完全可以在差距小的时候，提前追赶上欧美，甚至弯道超车。

    前世，落后得太多。

    那时候，欧美euv都更新了好几代，并且投用了多年，咱们才奋起直追duv光刻机，自然难。

    可这一次，大家都还是duv，那就简单了。

    至于阿斯麦的euv，目前还不成熟，正式投用还得好几年。

    因为王逸的提议，提前追赶，前途可期。

    “那再好不过，我相信国家机器的力量。”王逸笑说。

    像是duv光刻机，星逸科技要做，十年都难。

    官方要做，有国家机器全力支持，五年就差不多搞定14纳米的duv。

    后续不断迭代升级，逐步提高精准度，达到10纳米，7纳米，不在话下。

    毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式duv  12i，最初也是造45纳米芯片的。

    后续不断对duv光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。

    这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。

    前世duv国产光刻机之所以迟迟不量产，主要原因就是要求高，起步高。

    若是只能量产45纳米，那意义不大，推出了也没多少企业用。

    十年后，缺的是高端光刻机，不是45纳米的光刻机。

    但要想量产7纳米，甚至5纳米，那难度就大了，国产duv都得不断升级。

    因此，国产duv迟迟不推出，就是在憋大招。

    不过这一次就无所谓了。

    起步早，能量产28纳米，就算是非常成功。

    甚至量产45纳米，王逸都会疯狂买买买。