第七百八十五章 光刻机的技术之墙得用水泡！ (3/5)
技术，然后，ASML就发展成为了世界第一光刻机大厂，苦心钻研157纳米光源的尼康，就彻底落后了！
“听我的，没有错，早期光刻机还是用液压驱动的，里面的液压油，不也是液体的吗？”
最开始的光刻机，还真是液压驱动，万一，万一中的万一，管道崩了，那液压油肯定会喷射的到处都是，正在生产中的所有芯片都会报废。所以后来，都改成了电机驱动。
不过，当时高压的液压油都敢用，现在用一些水，有何不可？
“既然秦总确定，那我们就用这种技术，不过……这也只能解决暂时的问题，继续提升工艺，还是会遇到拦路虎。”
193纳米经过折射变成了133纳米，也就意味着，0.13微米的工艺能解决了，之后进入纳米时代呢？还是会遇到光刻机的光源问题的！
“接下来，一步到位，开发EUV光刻机，光源使用13.5纳米的极紫外波长。”
徐教授一阵惊讶：“这也太快了吧？”
“一步步来，还会不断地遇到技术难题，还不如加大攻关难度，将这个捣鼓出来，以后十年二十年，都不用担心光源问题了。”
秦锋不懂具体的技术细节，但是他懂技术的发展路线，仅仅是这个，就会让己方的技术遥遥领先对手了。
在光刻机的技术探索上，有很多失败的例子，尼康的157纳米是个坑，同时，还有光刻机生产厂研究过126纳米光源，但是，这个波长更奇葩，不仅仅是熔石英会吸收，任何材料的吸收都很厉害，透镜不能用，只能用全反射的方式，结构跨度太大，分辨率也没提升多少。
所以，后世的光刻机厂商各种研究，最终认为，干脆一步到位，上13.5纳米的光源。
这个光源的研究，也是经过了长时间的尝试的，甚至最初还是13.4纳米，各种研究之后，才锁定13.5纳米。
“这个光源……”徐教授仔细地思考了一番：“得在真空中，还得是反射结构。”
反正继续向下选，各种光源都是需要真空环境加反射镜的，和之前的结构完全不同，所以，一步到位！
寻找反射的条件也不容易，最终工程师们找到了反射率最高的Mo-Si布拉格反射器，一层Mo薄膜加上一层Si薄膜，它的最高反射率在13.5纳米波长的位置，于是，这种光源就被确定了下来。
其他的技术路线，X光之类的，都被超越了。
不过，最初的时候，精度并不是特别高，只是比193浸润式光刻机提升了三倍而已，就算是这样，过渡到纳米时代也没问题了，之后不断研究，提升分辨率就可以了。
“具体的结构你们来选择，具体的技术难关，你们来攻克，不过，这条技术路线绝对是没问题的，你们按照这条路线发展就可以！”
秦总虽然是个外行，但是每次提出来的建议都是非常正确的，所以，徐教授没有继续犹豫，点头说道：“好，秦总，那我们就按照这个技术路线来！”
其中有多少技术难题，秦锋也不知道，这是手下们要干的！
现在，总算是没问题了吧？
看到徐教授依旧皱着眉头的样子，秦锋继续问道：“徐教授，还有问题？”
“目前，尼康正在研究193纳米光刻机，据说研究顺利，台积电已经下了几台订单，用不了多久，台积电也将会向0.18微米工艺发起冲击，而我们……
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