第七百八十五章 光刻机的技术之墙得用水泡！ (2/5)
议，秦锋就来到了高科技研发中心，得到了任务，大家伙立刻就拍着胸脯保证，小问题，尽快搞定！
“徐教授，你有事？”看着徐教授那欲言又止的样子，秦锋开口问道。
“秦总，目前咱们的芯片加工水平已经发展到了0.18微米，我们继续向新一代的光刻机研发，在这个过程中，我们遇到了技术瓶颈。”此时的徐教授，脸上带着尴尬。
当初，秦总慧眼识珠，投资徐教授的光刻机，之后，国产光刻机技术就开始爆发了，一直都领先整个世界。
但是现在……己方在这里举步不前，那国产芯片技术，就要被国外逐渐追赶上来，甚至还有被反超的可能。
这段时间，徐教授非常着急，头发都白了！
今天，秦总既然过来了，那就给他汇报一下吧，万一秦总有什么好主意呢？
“光源问题？”秦锋倒是想到了什么，开口问道。
“没错，就是光源问题！”徐教授兴奋地说道：“随着光刻机技术的进步，我们需要的激光光源，波长也会越来越小，现在，新一代激光光源，遭遇了很大问题。”
芯片制造中，最关键的就是光刻，这需要激光光源！
这些年来，激光光源在不断进步，从436纳米的g-line，到365纳米的i-line，再到248纳米KrF，目前使用的是193纳米的ArF光源，这条路一直走得很通畅，但是，到了193纳米之后，就开始遇到问题了！
“按照技术路线，接下来就轮到157纳米的F2光源了，但是这个光源的问题很大。”徐教授说道：“这种波长下，熔石英的吸收很大，没法用熔石英来做透射式系统，目前业界的期待是用CaF2来做，但是，依旧会遇到双折射的问题……咱们卡在这里已经半年多了……”
己方原地踏步，国外在追赶，用不了多久，就会被国外追上了！徐教授很着急！
在后世，秦锋也并不知道这个157纳米的光源为啥不能用，但是他知道，尼康赌这个系统，然后失败了，而当时无数次濒临破产的ASML，把制胜的法宝押在了林本坚的浸润式光刻机上，于是成功了。
所以……这还用说吗？
“既然这种光源有问题，那就不要用了。”
“那我们用什么？”徐教授的目光中带着焦虑。
“还用之前的193纳米。”
徐教授睁大了眼睛，不可思议地看向秦锋，秦总，这个光源不够用啊！
不过……秦总既然这么说了，肯定有他的道理，还是听一听他怎么说。
“将这个光源穿过去离子水，水的折射率是多少来着？这样一换算，应该能将波长降低到130纳米左右吧？”
徐教授深深地呼吸了一口气，一旁的倪老已经开口了：“换算过来，是133纳米，这样比157纳米的光源还要小，但是……”
徐教授的脸上带着苦笑：“秦总，咱们的光刻机里是有电路的，您要在光刻机里加水……”
这听上去，有些扯淡啊！
秦锋笑了笑，林本坚当年在硅谷介绍这种技术的时候，所有人都以为他是在扯淡，毕竟之前的光刻机都是干式的，要在里面加水？脑子进水了吧？
只有那个即将破产的ASML，决定押这种
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