科技手札

刻机的水准，满足7~5nm精度的光刻机工艺需求，就是这次跟沪都微电子的合作项目。

    “这也是没办法的事情，如果国内有euv，再利用这项技术，都可以直接突破2nm了！”康硕颇为遗憾的想着。